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申购单主题: | 高真空离子溅射仪 | 申购单位: | ****点击查看 | 报价类型: | 国内含税价 |
使用币种: | 人民币 | 公示时间: | 2025-05-22 00:45:39 | ||
申购备注: |
高真空离子溅射仪 | 速普 | S20 | 1 | 送货到安装地,协助安装和操作培训,后期使用过程中提供应用咨询服务。 |
规格:双靶,高真空,涡轮分子泵与无油隔膜泵组合,抽速 ≥隔膜泵 0.7 m3/h +分子泵 30.5 m3/h实现103 Pa量级的洁净真空。配备旋转偏转样品台,可均匀稳定地沉积导电膜,适用于样品的喷金、铂及叠层薄膜。触摸屏控制,即插即用。 工作气压:典型值 0.5-2 Pa 气体控制:恒流, MFC气体质量流量控制器(50 SCCM N2) 启动时间: < 3-5 Min 溅射计时 :0-600S 真空规 :高真空复合真空计【大气压到10-3 Pa 量级】 腔室尺寸: ~ Φ150 *120 mm 数显样品台: Φ75mm旋转样品台,旋转转速: 10-60RPM 连续可调 样品台高度调节:靶基距45-60 mm连续可调 溅射靶材: 靶材尺寸 Φ30 0.2-1 mm/2只,可单靶溅射、双靶交替溅射功能 溅射电源: 恒功率DC溅射电源 Max. 30W , Max. 100 mA, 0-800 V DC 进气口:Φ6 mm气管 操作方式: 触摸屏控制, 控制系统提供互锁保护功能 尺寸重量 :~250mm长 *360mm深 *400 mm高;主机~15 kg 电源 :24V DC, 200W Max 配件:Φ30 1 mm金靶+Φ30 1 mm铂靶各一片,裂片机。 |